歡迎進(jìn)入英國(guó)普拉勒科技有限公司-普拉勒(南京)儀器科技有限公司網(wǎng)站!
普拉勒金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器介紹
一、產(chǎn)品概述
普拉勒金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器是一款專為金剛石薄膜制備設(shè)計(jì)的先進(jìn)設(shè)備,采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)技術(shù),結(jié)合高效氫氣生成系統(tǒng),為金剛石生長(zhǎng)提供穩(wěn)定、純凈的氫氣環(huán)境。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、機(jī)械加工等領(lǐng)域,是高性能金剛石薄膜制備的理想選擇。
二、核心特點(diǎn)
1. 高效氫氣生成
1)采用先進(jìn)的電解水技術(shù),高效生成高純度氫氣(純度≥99.999%),滿足金剛石薄膜制備的嚴(yán)格要求。
2)氫氣產(chǎn)量穩(wěn)定,可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求靈活調(diào)節(jié),確保實(shí)驗(yàn)過(guò)程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
2. MPCVD技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1)微波等離子體技術(shù)提供均勻的高能量密度,促進(jìn)金剛石薄膜的高質(zhì)量生長(zhǎng)。
2)等離子體環(huán)境可控性強(qiáng),支持多種氣體混合,適應(yīng)不同金剛石薄膜的制備需求。
3. 智能化控制
1)配備先進(jìn)的PLC控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)氫氣流量、壓力、溫度等參數(shù)的精確控制。
2)支持多段程序設(shè)定,自動(dòng)化操作,減少人為干預(yù),提高實(shí)驗(yàn)效率。
4. 安全可靠
1)配備多重安全保護(hù)功能,包括過(guò)壓保護(hù)、漏氣保護(hù)、過(guò)溫保護(hù)等,確保設(shè)備運(yùn)行安全。
2)采用防爆設(shè)計(jì)和優(yōu)質(zhì)材料,適應(yīng)高能量密度環(huán)境,延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。
三、技術(shù)參數(shù)
1)氫氣純度:≥99.999%
2)氫氣流量:0-1000 sccm(可調(diào))
3)工作壓力:0.1-100 kPa(可調(diào))
4)電源功率:3-5 kW
5)冷卻方式:水冷/風(fēng)冷
四、應(yīng)用領(lǐng)域
1. 半導(dǎo)體行業(yè):用于制備高性能金剛石薄膜,提升半導(dǎo)體器件的散熱性能和電學(xué)性能。
2. 光學(xué)領(lǐng)域:用于制備高透光率、高硬度的金剛石薄膜,應(yīng)用于光學(xué)窗口、激光器等。
3. 機(jī)械加工:用于制備超硬金剛石涂層,提高刀具、模具的耐磨性和使用壽命。
400-859-7066